硅物质的物理清洗方法

①超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉硅片片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。
②高压清洗：是用液体喷射片子表面，金属镓喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。
③刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。铟箔详情请登录：http://www.andhaometal.com/