• 信息
  • 详情
  • 联系
  • 推荐
立即购买分享好友 供应首页 供应分类 切换频道
1/5
纳米级大粒径硅溶胶SD-10050半导体CMP研磨抛光液图1纳米级大粒径硅溶胶SD-10050半导体CMP研磨抛光液图2

纳米级大粒径硅溶胶SD-10050半导体CMP研磨抛光液

2024-07-02 14:251870已售
价格 8.00
发货 广东江门市付款后3天内  
品牌 惠和
PH值 9.0-10.5
外观 乳白色
质保期 1年
库存 99999千克起订25千克  
产品详情

SD-10050应用
蓄电池:
铅蓄电池的电解液-硫酸,在汽车坦克等机动车急转弯时容易溢出,若向硫酸中加入一定量的SD-10050硅溶胶,生成具有导电性能的凝胶型胶体电解液,可以防止硫酸溢漏,减少污染,并能延长电瓶的寿命。(凝固剂)造纸:
1.牛皮纸,瓦楞纸,水泥袋表面用SD-10050硅溶胶处理后,可以提高防滑性,减少运输和堆存中的滑动。提高纸品的耐湿性强度。
2.电子计算机使用的穿孔纸,用硅溶胶涂复后,可使其具有较高的稳定性和防滑性,且打印性好。
研磨抛光:
单质硅硅溶胶以其良好的球性结构,较为坚硬的质地以及纯净的品质,可以被很好地用作电子产品、金属、玻璃、镜面陶瓷、硅片、半导体材料等的研磨抛光材料。

HSD-10050硅溶胶可用于3C产品外观件抛光、微电子、光电子、光学、金属以及蓝宝石抛光

硅溶胶可以实现对抛光速度、表面质量、抛光压力和热稳定性的精确控制。 硅溶胶在电子抛光过程中提供了稳定的磨料载体、改善表面质量,并确保抛光效 果的一致性和可靠性。

磨料载体:硅溶胶可作为磨料的载体,在电子抛光过程中提供磨料的分散和 固定。它能够稳定地携带磨料颗粒,并在抛光过程中释放磨料以实现材料的 研磨和去除。 

控制抛光速度:硅溶胶的粒径和颗粒分布可以影响抛光速度和表面质量。通 过调整硅溶胶的规格和浓度,可以实现对抛光速度的精确控制,从而获得所 需的表面平整度和光洁度。

表面质量改善:硅溶胶颗粒的细小尺寸和均匀分布有助于填补微小的表面缺 陷,提高抛光后的表面质量。它能够平滑表面、去除划痕和瑕疵,实现更光 5 滑和均匀的表面。 

控制抛光压力:硅溶胶作为抛光液中的稳定成分之一,可以调节抛光液的黏 度和流动性,从而控制抛光时的施加压力。适当的抛光压力有助于避免过度 磨损和材料变形,提高抛光效果和产品质量。

热稳定性:硅溶胶具有良好的热稳定性和耐热性,适用于高温电子抛光过程。 它能够在高温环境下保持稳定性,减少热应力对材料的影响,并提供持久的 抛光性能

举报
评论 0
联系方式
加关注0

江门市惠和永晟纳米科技有限公司

企业会员第3年
资料未认证
保证金¥5.00