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高纯氧化亚铜靶材Cu2O磁控溅射靶材图1

高纯氧化亚铜靶材Cu2O磁控溅射靶材

2020-08-12 18:061860询价
价格:¥1000.00/片
品牌:晶迈中科
规格:根据客户要求定制
起订:1片
供应:10片
发货:21天内
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科研实验专用高纯氧化亚铜靶材Cu2O磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氧化亚铜(Cu2O)为一价铜的氧化物,鲜红色粉末状固体,不溶于水和醇,溶于盐酸、微溶于硝酸;溶于盐酸生成白色氯化亚铜结晶粉末;遇稀硫酸和稀硝酸生成铜盐;在空气中会迅速变蓝;能溶于浓碱、三氯化铁等溶液中。;主要用于制造船底防污漆以及各种铜盐、分析试剂、红色玻璃,还用于镀铜及镀铜合金溶液的配制。
       产品参数
中文名 氧化亚铜     化学式 Cu2O       分子量 143.08
熔点 1235 ℃          沸点 1800 ℃       密度 6.0 g/mL
纯度 99.9%

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。


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